通过技术和EquipmentIntelligence(设备智能)的创新,Vantex重新定义了高深宽比刻蚀,助力芯片制造商推进3DNAND和DRAM的技术路线图。上海——近日,泛林集团(Nasdaq:LRCX)发布了专为其**化的刻蚀平台Sense.i所设计的**介电质刻蚀技术Vantex。基于泛林集团在刻蚀领域的领导地位,这一开创性的设计将为目前和下一代NAND和DRAM存储设备提供更高的性能

功耗是我们关注的设计焦点之一**的器件设计往往具备低功耗特点。在前两篇文章中,小编对基于Freez技术的低功耗设计以及FPGA低功耗设计有所介绍。为增进大家对低功耗的了解,查莱斯-迪亚斯以及方便大家更好的实现低功耗设计,本文将对FPGA具备的功耗加以详细阐述。如果你对低功耗具有兴趣,不妨继续往下阅读哦。FPGA器件的一个比较特别的现象是其上电瞬间的电流比较大,有的时候甚至大于芯片正常工作的电流,这

1月26日,英特尔官网宣布向越南封测工厂IntelProductsVietnam(IPV)追加投资4.75亿美元。这项新投资是继英特尔于2006年宣布在西贡高科技园区(SHTP)投资10亿美元打造先进芯片封测厂之后的又一项投资。这使英特尔在越南工厂的总投资达到15亿美元。英特尔KimHuatOoi表示,截至2020年底,越南厂IPV已向全球客户出货超过20亿颗芯片,这表明IPV对于帮助英特尔满足其

更多精彩尽在这里,详情点击:http://glgjsmc.com/,查莱斯-迪亚斯

发表评论

邮箱地址不会被公开。 必填项已用*标注